点可蒸发任何材料薄膜纯度高直接作用于材料表面,热
缺点电子枪结构复杂,造价高化合物沉积时易分解,化学比失调
3激光蒸发镀膜
采用高能激光束对材料进行蒸发,用以形成薄膜的方法,一般称为激光蒸镀。
优点薄膜纯度高蒸发速率高特别适合蒸发成分复杂的合金或化合物,膜层的化学计量比与靶材保持一致
缺点
易产生微小颗粒飞溅,影响薄膜质量
较为成熟的 PVD 方法主要有多弧镀与磁控溅射镀两种方式。多弧镀设备结构简单,容易操作。它的离子蒸发源靠电焊机电源供电即可工作,其引弧的过程也与电焊类似,具体地说,在一定工艺气压下,引弧针与蒸发离子源短暂接触,断开,使气体放电。具有摩擦系数较低,耐磨损,膜层应力小好等优点用途:润滑涂层,成型模具,铝合金等粘结性强材料冲压模具。由于多弧镀的成因主要是借助于不断移动的弧斑,在蒸发源表面上连续形成熔池,使金属蒸发后,沉积在基体上而得到薄膜层的,与磁控溅射相比,它不但有靶材利用率高,更具有金属离子离化率高,薄膜与基体之间结合力强的优点。以上信息由专业从事处理不锈钢镀钛报价的金常来于2024/4/22 10:36:04发布
转载请注明来源:http://xuchang.mf1288.com/jcl123-2739910501.html